如何有效提升温室黄瓜的早春产量？

温室越冬黄瓜生产中地膜覆盖至关重要，但其技术细节繁多，管理不当可能会适得其反。那么，如何正确应用覆盖技术呢？

lens

chevron_left

chevron_right

地膜覆盖旨在提高地温和降低湿润度，但管理不当会导致根系上浮、通透性差。嫁接苗早早覆盖地膜，可能会导致根系不能深扎，影响保温效果和越冬黄瓜的高产。因此，理解地膜覆盖的最佳时机和方法至关重要。

为了优化种植技术，建议在黄瓜栽后3~5天开始中耕，小垄深10厘米，大垄深20-30厘米，直至黄瓜秧有6片真叶时改为浅耕。对于耐寒性自根苗，只需浅耕5厘米。关于地膜类型，应只覆盖栽培垄，并在早春天气转暖时及时去除地膜。

采用正确的地膜覆盖技术有助于根系深入土壤，提高根系的抗逆性，进而提升黄瓜的越冬能力和整体产量。这对于确保早春的生产效益和市场竞争力至关重要。